ASML

ASML 與光學巨頭 Carl Zeiss 正共同研發新一代 Hyper NA 晶片製造技術，預計於 10 年內面世。新裝置能突破 5 納米特徵尺寸極限，大幅降低功耗並提升效能，吸引全球頂尖晶片製造商積極部署。

百年光學企業 Nikon 預計虧損 850 億日元，光刻機業務全面失利。技術決策失誤加上出口管制，令 Nikon 難以追趕 ASML 的高階市場優勢。先進封裝業務或成新方向，但轉型速度成關鍵。

ASML 宣佈 1,000 瓦 EUV 光源研發取得重大突破，預計 2030 年前將晶圓產能提升 50% 並降低三分之一成本。本文深入解析此項創新對 TSMC、Intel 等巨頭的戰略影響，並對比美國新創與中國自主研發的競爭現況，助決策者掌握半導體核心供應鏈走勢。

法國 AI 初創企業 Mistral 在歐洲企業和政府急切尋求美國科技替代方案下，錄得按年經常性收入突破 4 億美元（約港幣 31.2 億元），較 1 年前的 2,000 萬美元（約港幣 1.56 億元）增長 20 倍，並計劃於年底前達到 10 億美元（約港幣 78 億元）經常性收入的里程碑。Mistral 同時宣佈斥資 12 億歐元（約港幣 101.8 億元）在瑞典興建首個法國境外的 AI 數據中心，標誌歐洲本土 AI 產業正加速擺脫對美國超大型雲端服務商的依賴，走向真正的科技自主。

中國政府據報已實施半導體設備「50% 國產化」硬指標，若晶圓廠擴產未達標將被拒絕審批。這項政策正重塑全球供應鏈格局，ASML 等國際巨頭面臨挑戰，而北方華創、上海微電子等本土企業則迎來爆發式增長。

ASML 行政總裁 Christophe Fouquet 警告，西方持續收緊出口管制恐迫使中國加速光刻機自主研發，甚至在 5 至 10 年內向全球輸出設備。

ASML 行政總裁指其中國光刻機技術落後 8 代，差距逾 10 年。在美日荷聯手封鎖下，中國加速 28 納米自主研發，全球半導體供應鏈恐分裂為平行體系，企業面臨選邊站的策略考驗。

歐盟 27 個成員國一致支援由荷蘭主導的《晶片法案 2.0》修訂，目標是擺脫籠統的市場佔有率目標，轉向精準戰略行動。

高盛最新報告警告，中國在關鍵的光刻技術上落後西方至少 20 年，半導體自主化挑戰巨大。報告深入分析了美國出口管制下的產業格局，以及中芯國際、華為等企業的應對策略。雖然中國持續加大投資，但在核心裝置領域仍有長路要走。