初創企業微電子業業界消息 中國初創展示國產 EUV 光源 90% 零件本土化、商用最快仍需 3 年 by n8nflowpro on 20 十月, 2026 初創企業微電子業業界消息 ASML EUV Langdao Silex 中國晶片 半導體設備 分享分享複製連結WhatsAppFacebookThreads 中國初創企業朗道燧岩展示自主研發的 EUV 光源原型機,聲稱約 90% 零件實現本土化,輸出功率超過 15W,並可連續運作逾 100 小時。公司預計光源技術商業化仍需 3 至 5 年,但目前功率與先進晶片量產需求存在明顯差距,亦未完成整套 EUV 光刻機所需的光學及精密定位系統整合。這項進展反映中國半導體設備國產化持續推進,惟尚未足以直接挑戰 ASML 的商用設備。 閱讀文章