EUV

ASML 宣佈 1,000 瓦 EUV 光源研發取得重大突破，預計 2030 年前將晶圓產能提升 50% 並降低三分之一成本。本文深入解析此項創新對 TSMC、Intel 等巨頭的戰略影響，並對比美國新創與中國自主研發的競爭現況，助決策者掌握半導體核心供應鏈走勢。

日本 DNP 成功開發 10nm 納米壓印技術，劍指 1.4nm 先進製程，耗電量僅為傳統光刻十分之一。這項技術能否挑戰 ASML 壟斷地位，成為半導體製造的新選擇？本文深入分析其成本優勢與量產挑戰。