中國初創企業朗道燧岩展示自主研發的 EUV 光源原型機，聲稱約 90% 零件實現本土化，輸出功率超過 15W，並可連續運作逾 100 小時。公司預計光源技術商業化仍需 3 至 5 年，但目前功率與先進晶片量產需求存在明顯差距，亦未完成整套 EUV 光刻機所需的光學及精密定位系統整合。這項進展反映中國半導體設備國產化持續推進，惟尚未足以直接挑戰 ASML 的商用設備。
半導體設備
百年光學企業 Nikon 預計虧損 850 億日元，光刻機業務全面失利。技術決策失誤加上出口管制，令 Nikon 難以追趕 ASML 的高階市場優勢。先進封裝業務或成新方向，但轉型速度成關鍵。