Hyper NA

ASML 與光學巨頭 Carl Zeiss 正共同研發新一代 Hyper NA 晶片製造技術，預計於 10 年內面世。新裝置能突破 5 納米特徵尺寸極限，大幅降低功耗並提升效能，吸引全球頂尖晶片製造商積極部署。