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半導體

企業趨勢微電子業應用方案業界消息

日本 DNP 突破 10nm 壓印技術 有望挑戰 ASML 的 EUV 壟斷地位

日本 DNP 成功開發 10nm 納米壓印技術,劍指 1.4nm 先進製程,耗電量僅為傳統光刻十分之一。這項技術能否挑戰 ASML 壟斷地位,成為半導體製造的新選擇?本文深入分析其成本優勢與量產挑戰。
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企業趨勢微電子業資訊及通訊科技

高盛研究調查:中國先進半導體技術仍落後西方二十年

高盛最新報告警告,中國在關鍵的光刻技術上落後西方至少 20 年,半導體自主化挑戰巨大。報告深入分析了美國出口管制下的產業格局,以及中芯國際、華為等企業的應對策略。雖然中國持續加大投資,但在核心裝置領域仍有長路要走。
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