企業趨勢微電子業應用方案業界消息 日本 DNP 突破 10nm 壓印技術 有望挑戰 ASML 的 EUV 壟斷地位 by Pierce on 16 十二月, 2025 企業趨勢微電子業應用方案業界消息 canon DNP EUV 半導體 納米壓印 日本 DNP 成功開發 10nm 納米壓印技術,劍指 1.4nm 先進製程,耗電量僅為傳統光刻十分之一。這項技術能否挑戰 ASML 壟斷地位,成為半導體製造的新選擇?本文深入分析其成本優勢與量產挑戰。 read more