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日本 DNP 突破 10nm 壓印技術 有望挑戰 ASML 的 EUV 壟斷地位

日本 DNP 成功開發 10nm 納米壓印技術,劍指 1.4nm 先進製程,耗電量僅為傳統光刻十分之一。這項技術能否挑戰 ASML 壟斷地位,成為半導體製造的新選擇?本文深入分析其成本優勢與量產挑戰。
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