Nikon 預計 2025 財年錄得 850 億日元虧損，創公司成立以來最差紀錄。這家百年光學精密儀器企業在半導體光刻機業務上全面失利。光刻機市場格局變化迅速，業界始料未及。Nikon 的表現反映傳統光學製造業在技術迭代中面臨的深層挑戰。
虧損分析：財務數據解讀
Nikon 財務表現嚴峻。2025 財年（截至 2026 年 3 月），集團總營收約 6,750 億日元，淨利潤預計虧損 850 億日元，營業利潤更暴跌 93.9%。Nikon 指出，虧損主因是 3D 列印業務拖累，數字製造業務計提 906 億日元資產減值損失。半導體光刻機業務持續萎縮亦是核心問題：精密設備業務營收 2,019.63 億日元，按年下降 7.9%，多年以來首度錄得虧損。
2026 財年上半年（2025 年 4 月至 9 月），Nikon 錄得近五年來首次營業虧損，合併營業虧損 48.29 億日元。Nikon 下修全年半導體光刻機銷量目標，由 34 台調低至 29 台，仍略高於 2024 年的 28 台。為控制成本，Nikon 於 2025 年 8 月宣佈關閉橫濱工廠，影響約 350 名員工。
Nikon 與 ASML 技術差距顯著
Nikon 與荷蘭 ASML 的技術差距顯著。2025 年全年，ASML 出貨 48 台極紫外光（EUV）光刻機及 131 台浸沒式深紫外光（DUV）裝置。Nikon 在 2025 財年上半年僅出貨 9 台半導體光刻機，全部為成熟製程舊型號，缺乏高階市場競爭力。ASML 在全球 EUV 光刻機市場佔有率逾 90%，預計 2025 年 EUV 銷售額按年增長約 30%，受惠於 AI 晶片及記憶體晶片需求快速增長。
市場佔有率對比顯示明顯差距。Nikon 在 2001 年佔有全球光刻機市場約 40% 份額，如今按金額計算已跌至個位數，位列全球第三，落後於 ASML 與 Canon。ASML 訂下 2030 年銷售額達 440 億至 600 億歐元（約 3,731 億至 5,088 億港元）的目標，兩家企業發展路向差異顯著。
技術決策失誤影響發展
Nikon 現時的困境源於多項關鍵技術決策失誤。2000 年代初浸沒式光刻技術興起，Nikon 未能把握發展時機，ASML 搶先實現商業化，奠定市場優勢。其後 Nikon 在 EUV 研發上堅持自行研發策略，結果被排除在 ASML 主導的 EUV 聯盟之外，聯盟成員包括 Intel、TSMC、Samsung 等主要晶片廠。Nikon 無法取得核心光源技術，投入超千億日元研發 EUV，最終只製成無法商用的原型機，商業化開發被迫終止。
客戶結構過度集中亦帶來風險。Nikon 長期依賴 Intel 為主要客戶，當 Intel 削減資本開支，Nikon 訂單大幅減少。Nikon 未能及時開拓 TSMC 與 Samsung 市場，難以彌補訂單缺口。TSMC 與 Samsung 作為全球晶圓代工兩大企業，現已與 ASML 的 EUV 生態緊密合作，Nikon 難以進入高階市場。
出口管制影響業務拓展
外部政策壓力影響 Nikon 業務。美國、日本與荷蘭於 2025 年 11 月簽署協議，協調收緊對中國的半導體裝置出口管制，涵蓋深紫外光刻系統、蝕刻設備等多類關鍵裝置，Nikon 包括在內。中國市場是日本半導體設備廠商的重要出貨目的地。管制收緊令 Nikon 交付成本上升，中國客戶流失，其在成熟製程設備領域的市場佔有率亦進一步下跌。
業界研究報告顯示，Nikon 在華業務受管制衝擊較財報所述更明顯，DUV 設備的長期服務合約已出現縮減。ASML 在 2024 年仍向中國客戶出售逾七成 DUV 浸沒式設備，Nikon 面對的管制壓力則更早、更直接。
轉型挑戰與未來方向
Nikon 的困境反映全球半導體設備產業格局變化。850 億日元虧損顯示日本光刻機產業在高階市場失去競爭力。AI 晶片需求帶動 3 奈米以下先進製程投資，EUV 光刻機市場地位將更穩固，Nikon 重返高階光刻機市場的機會渺茫。先進封裝業務快速發展，或可為這家百年企業提供新機遇。Nikon 的轉型速度能否配合市場需求，將決定其未來發展。
資料來源：Nikon Investor Relations | 財聯社 – Nikon 2025 財年預虧 850 億 | Yahoo Finance / Nikon DSP-100 | Investing.com – Nikon Q3 Loss | TrendForce – Yokohama Closure
